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제 25회 반도체 대전 SEDEX

October 25 ~ 27 / COEX SEOUL

2023 참가업체 디렉토리

케이씨텍

KCTech

Booth No.D222
  • CEO양호근, 최동규 / H.K Yang, D.K Choi
  • ADDRESS경기도 안성시 미양면 제2공단3길 30 / 30, Je2gongdan 3-gil, Miyang-myeon, Anseong-si, Gyeonggi-do, Korea
  • CONTACTTel. +82-31-670-8136 / Fax. +82-31-670-8297 / URL. www.kctech.co.kr
  • 제조품목

    반도체 장비/소재 (Semiconductor Equipment / Material)

     - CMP : Chemical Mechanical Polishing Semiconductor Equipment
     - Wet Cleaning System : Etching, Delamination, Particle removal Equipment
     - Slurry : Semiconductor planarization polishing consumable materials used in the process

       

    디스플레이 장비/소재 (Display Equipment / Material)
     - Wet station : Wet chemical process equipment(Etcher, Developer, Stripper, Cleaner)
     - Coater : PR(Photo Resist) Coating equipment before exposure process
     - APP : Atmospheric Pressure Plasma cleaning device 
     - CO2 Cleaner
     - Nano ZrO2 disporsed Material


    Semiconductor Equipment / Material

     - CMP : Chemical Mechanical Polishing Semiconductor Equipment
     - Wet Cleaning System : Etching, Delamination, Particle removal Equipment
     - Slurry : Semiconductor planarization polishing consumable materials used in the process

       

    Display Equipment / Material
     - Wet station : Wet chemical process equipment(Etcher, Developer, Stripper, Cleaner)
     - Coater : PR(Photo Resist) Coating equipment before exposure process
     - APP : Atmospheric Pressure Plasma cleaning device 
     - CO2 Cleaner
     - Nano ZrO2 disporsed Material

  • 회사소개

    (주)케이씨텍은 1987년 2월에 설립된 반도체 장비, 소재 및 디스플레이 장비 전문기업입니다.
    반도체용 전공정 장비로는 평탄화 공정에 적용되는 핵심제품인 CMP장비와 Wafer 상의 불순물을 제거하는 세정장비가 있습니다.
    반도체 소재로는 Wafer 연마제인 CMP Slurry가 있습니다.
    디스플레이 전공정 장비로는 Cleaner, Developer, Etcher, Stripper와 Coater가 있습니다.
    2017년 11월에 사업부문을 인적분할한 (주)케이씨텍은 독보적인 혁신과 핵심 R&D로 가치 창출을 통해 글로벌 선도기업으로의 새로운 도약을 준비합니다.


    KCTECH is the company founded in February 1987 and specialized in semiconductor systems, materials and display systems.
    KCTECH provides the CMP system and wafer cleaner for the semiconductor pre-process.
    For the material product, the CMP slurry wafer abrasive is available.
    KCTECH also provides the Display equipment, consists of Cleaner, Developer, Etcher, Stripper, and Coater for the display pre-process.
    KCTECH established by spin-off in November 2017, set a goal of becoming the most reliable global technology partner with value creating through seamless innovation and dedicated R&D.

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